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                                                                          18620026217

                                                                          科沃園

                                                                          科沃園  

                                                                          e026665d8d6c415591e626dc79c163f7_4

                                                                          企業專利挖掘要點

                                                                          返回列表 來源: 百家號 發布日期: 2018.09.19
                                                                                專利挖掘是根據企業自身需求,發現創新點并形成專利申請的過程。這是企業專利布局工作的重要支撐。

                                                                                 而專利挖掘形成的直接成果就是技術交底書,那么技術交底書要如何規范撰寫?

                                                                          (一)基本撰寫要求

                                                                                  技術交底書主要展用于發明人與專利工程師或專利代理人之間的溝通需要,以便于專利工程師或專利代理人真正理解發明內容,撰寫合格的專利申請文件。

                                                                          1.基本撰寫要求

                                                                                 (1)清楚描述現有技術及其缺點,讓專利工程師了解與發明有關的現有技術的現狀及關于有關技術問題可能的技術解決方案,幫助專利工程師準確把握本發明作出的技術貢獻及其價值。

                                                                                 (2)清楚描述發明采用的技術方案,要求主題明確、表述準確、技術方案完整、技術方案可實現。

                                                                                (3)清楚描述發明技術方案的有益效果,針對所要解決的技術問題,本發明技術方案相對于現有技術取得的技術進步和技術效果。

                                                                          2.一般撰寫要求

                                                                                 (1)技術交底書需要提供能夠實現發明目的的多個不同的、變通的、替代的實施例。

                                                                                 (2)技術交底書應對采用的技術方案分析產生有益效果的原因。

                                                                                 (3)提供附圖并詳細描述附圖。

                                                                          (二)撰寫要點

                                                                          1.發明或實用新型的名稱

                                                                                  根據現有技術來明確寫出專利名稱,且不能使用宣傳用語。

                                                                          2.所屬技術領域

                                                                                  明確寫明該發明創造直接所屬或直接應用的技術領域。

                                                                          3.背景技術及其缺陷

                                                                                  現有技術指發明人所知曉的且對理解、檢索、審查該申請有參考作用的背景技術。至少引證一篇與本申請最接近的現有技術文件,必要時可再引用幾篇較接近的對比文件。

                                                                                  缺陷是指與發明創造最相關的現有技術存在的技術問題,但該技術問題應當是本技術方案能夠解決的技術問題。

                                                                          4.發明目的

                                                                                  針對解決現有技術中存在的問題和缺點,也就是要結合本發明或實用新型取得的效果提出所要完成的任務。

                                                                          5.發明內容

                                                                                  實現發明目的所利用的具體技術方案和手段,要求清楚、完整、準確地對技術手段加以描述以使本領域內的普通技術人員能實施為準。

                                                                          6.有益效果

                                                                                  與現有技術相比,本申請技術能實際解決技術問題而帶來的效果。

                                                                          7.最佳實施方式

                                                                                   實施例應當詳細、具體地描述本專業普通技術人員實施和再現本發明所需的一切必要條件。

                                                                          8.附圖及附圖說明

                                                                                   附圖有零件圖、組件裝配圖、組件爆炸圖、電路圖、線路圖、流程圖、方框圖、模塊圖、曲線示意圖、形狀示意圖等,可采取多種繪圖方式,以充分體現發明點之所在。

                                                                          文章末尾 1640

                                                                          【相關推薦】

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